A maioria das tecnologias micro / nano requerem diferentes tipos de processos de padronização em determinados estágios durante os ciclos de design e produção.

Existem vários métodos de padronização, dentre as quais, a aplicação de máscaras de foto é a mais comum. Portanto, a definição de tais máscaras é um passo crítico durante o desenvolvimento de produtos micro. CleWin é uma solução confiável.

CleWin é um editor de layout hierárquico. Os layouts típicos consistem de símbolos (também conhecidos como células) que podem ser aninhados e acessados diretamente. Editar um símbolo em um local mudará várias outras instâncias do mesmo símbolo. As primitivas básicas de desenho são caixas, círculos, fios e polígonos, que podem ser armazenados no formato CIF padrão. Anéis e espirais são gerados automaticamente como fios.

CleWin usa uma resolução de até 1 picômetro e possui uma função desfazer ilimitada.

Os polígonos complexos podem ser criados usando as operações booleanas: mesclar, subtrair, XOR e interseção. 
Por exemplo: para criar uma caixa com um furo circular nele, basta desenhar uma caixa e um círculo e selecionar o comando ‘subtrair’.

CleWin usa o formato de arquivo CIF e GDSII padrão e é executado em um PC com MS Windows XP, Vista ou Windows 7.